照度计紫外线灯UV-35

超高圧水銀Lampは均一・平行光源として豊富な実績のあるマルチライトシリーズの基本構成はそのままに波長230nm～450nmのDeepUV領域に適化した光源ユニットです。リソグラフィー用途はもちろん、表面改質光源、各種光化学反応評価光源としても応用頂けます。光源:250W 超高圧UVランプ,露光エリア:φ135mm,波長領域:230nm～450nm,初期照度:16mW/cm2以上,照度均一度:±5%以内,本体外形寸法(mm):224(W)×521(D)×417(H),電源外形寸法（mm):180(W)×300(D)×360(H).显示面板制作工厂，NIKON曝光设备点灯用13KW电源。照度计紫外线灯UV-35

a.接触式曝光（Contact Printing）：掩膜板直接与光刻胶层接触。曝光出来的图形与掩膜板上的图形分辨率相当，设备简单。接触式，根据施加力量的方式不同又分为：软接触，硬接触和真空接触。1.软接触 就是把基片通过托盘吸附住（类似于匀胶机的基片放置方式），掩膜盖在基片上面；2.硬接触 是将基片通过一个气压（氮气），往上顶，使之与掩膜接触；3.真空接触 是在掩膜和基片中间抽气，使之更加好的贴合（想一想把被子抽真空放置的方式）软ONL-13503-1尼康曝光设备点灯用12KW电源。

低压汞灯（low pressure mercury lamp）指汞蒸气压力为1.3～13Pa（0.01～0.1mmHg），主要发射波长在紫外区的253.7nm（0.01mmHg），相当能量为471.0kJ/mol（112.5kcal/mol），占灯的总能量的70%的汞蒸气弧光灯。25℃时，该灯的主射线为253.7和184.9nm。低压汞灯光强低，光固化速度慢，但发热量小，不需冷却就可使用，在印刷制版上用得较多。主要应用作杀菌灯、荧光分析、光谱仪波长基准。这类灯又称灭菌灯，主要分类为：冷阴极辉光放电灯和热阴极弧光放电灯。低压汞灯点燃时汞蒸气压小于一个大气压，此时汞原子主要辐射波长为253.7nm的紫外线。常用的“日光灯”灯管内壁涂以卤磷酸钙荧光粉，再将紫外线转变为可见光。节能型荧光灯内壁涂有稀土荧光粉，发光效率更高。

曝光系统重要部件之一是紫外光源。常见光源分为:可见光：g线：436nm紫外光（UV），i线：365nm深紫外光（DUV）,KrF 准分子激光：248 nm, ArF 准分子激光：193 nm极紫外光（EUV），10 ~ 15 nm对光源系统的要求a.有适当的波长。波长越短，可曝光的特征尺寸就越小；[波长越短，就表示光刻的刀锋越锋利，刻蚀对于精度控制要求越高。]b.有足够的能量。能量越大，曝光时间就越短；c.曝光能量必须均匀地分布在曝光区。[一般采用光的均匀度或者叫不均匀度、光的平行度等概念来衡量光是否均匀分布]常用的紫外光光源是高压弧光灯（高压汞灯），高压汞灯有许多尖锐的光谱线，经过滤光后使用其中的g 线（436 nm）或i 线（365 nm）。对于波长更短的深紫外光光源，可以使用准分子激光。例如KrF 准分子激光（248 nm）、ArF 准分子激光（193 nm）和F2准分子激光（157 nm）等。曝光系统的功能主要有：平滑衍射效应、实现均匀照明、滤光和冷光处理、实现强光照明和光强调节等。BDE-202B型号电源，是否可以维修？

光刻机的品牌众多，根据采用不同技术路线的可以归纳成如下几类：**的投影式光刻机可分为步进投影和扫描投影光刻机两种，分辨率通常七纳米至几微米之间，**光刻机号称世界上**精密的仪器，世界上已有1.2亿美金一台的光刻机。极紫外光刻机堪称现代光学工业之花，其制造难度之大，全世界只有少数几家公司能够制造。国外品牌主要以荷兰ASML（镜头来自德国），日本Nikon（intel曾经购买过Nikon的半导体光刻机）和日本Canon三大品牌为主。紫外线能量单位是毫焦mj？NIKON露光机紫外线灯2KW电源

紫外线光源在半导体制造应用实例。照度计紫外线灯UV-35

ORC制作所生产超高压汞灯，英文：super high pressure mercury lamp，点灯时，汞蒸气压力为100～10000KPa，主要发射波长在365nm，395nm，405nm，436nm，累计光量可达数千kJ/mol(52.3kcal/mol)的汞蒸气弧光灯。短弧超高压汞灯是一种装有一对钍钨电极的球形石英玻壳放电灯。玻壳内充少量启动氩气和定量的汞,极间距离0.2～8mm,功率1,000～350,000W,工作时形成“电极稳定型”电弧, 一般采用垂直点灯,强制风冷。短弧超高压汞灯的有效寿命为750～3000h, 。 短弧超高压汞灯是辐射极强的长波紫外光源应用于集成电路光刻制版工艺。照度计紫外线灯UV-35

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